Общие принципы литографии

Задача литографии – перенос заранее заготовленного рисунка на

плоскость подложки.

Резист (Resist) – органический полимерный свето-(или электроно-)

чувствительный материал. Наносится на материал подложки.

Проявитель (Developer) – жидкость-растворитель

проэкспонированных областей резиста (или наоборот)

Подложка (Substrate) – тонкие пластины Si, SiO, сапфир, и др.

Шаблон (Mask) (фотолитография, рентгеновская литография) –

материал, прозрачный для излучения, на который нанесены области,

формирующие рисунок, непрозрачные для излучения, который

нужно передать на подложку

Электронный литограф снабжен специальной системой для управления ходом луча и получения картинок с разрешением десятки нм.

1. Нанесение резиста:

Берем пластинку кремния или покрытую оксидом кремния.

Наносим резист (в нашем случае PMMA), используем центрифугирование.

2. Устанавливаем меру в электронный литограф.

Проверяем параметры программы для рисования (ток, увеличение, дозы, штриховку)

Выбираем рисунок для производства детектора:

3. Достаем меру из литографа и проявляем ее в смеси воды и изопропилового спирта (1/8) 20 секунд

4. Проверяем полученный результат в оптическом микроскопе: