Выключение микроскопа S200

3.1. Выкрутите ручку Filament влево до упора.

3.2. Отожмите кнопку BEAM.

3.3. Отключите кнопку OPERATE.

3.4. Закройте затворы на колонне (должны замигать красные лампочки).

3.5. Выключите турбомолекулярный насос (самая правая кнопка) и дождитесь, пока он не остановится до 50 Гц.

3.6. Выключите форвакуумный насос, нажав зеленую кнопку Chamber vacuum. В камеру напустится воздух.

3.7. Откройте камеру и достаньте образцы.

3.8. Закройте камеру и включите форвакуумный насос, нажав зеленую кнопку Chamber vacuum.

3.9. Через 30 минут на стойке S200 выключите тумблер ВКЛЮЧЕНИЕ ЗАТВОРА (при этом закроется затвор). Убедитесь, что затвор закрылся.

3.10. Выключите форвакуумный насос, нажав зеленую кнопку Chamber vacuum.

3.11. Дождитесь напуска воздуха в форвакуумный насос и нажмите кнопку OFF на пульте управления микроскопа.

3.12. Выключите температурный вакуумметр.

3.13. Выключите 3ф выключатель на элетрическом щитке «синей» комнаты.

Электро́ нная литогра́ фия или электро́ нно-лучева́ я литогра́ фия — метод нанолитографии с использованием электронного пучка.

Остросфокусированный электронный пучок, отклоняемый магнитной системой, прорисовывает нужные конфигурации на поверхности чувствительного к электронному облучению резиста, нанесенного на подложку. Управление электронным пучком производится изменением токов в отклоняющих магнитных системах, управляемых компьютером.

Засвеченные облучением участки резиста полимеризуются, приобретая нерастворимость. Далее незасвеченные участки смываются подобранным растворителем. Через полученные окна производится вакуумное напыление подходящего материала, например, нитрида титана или металлов. Полимеризованный резист смывают другим растворителем, после удаления подложки окончательно формирует маску для использования в фотолитографии.

Электронная литография позволяет, на нынешнем уровне развития технологии, получать структуры с разрешением менее 1 нм, недостижимой для жесткого ультрафиолетового излучения, благодаря более короткой Де-Бройлевской длине волны электронов по сравнению со светом.

Электронная литография - в течение длительного времени является основным методом получения масок для последующей фотолитографии (в том числе масок для проекционной фотолитографии при массовом производстве сверхбольших микросхем). Альтернативным способом создания масок являются системы, использующие лазеры, однако они имеют меньшее разрешение.

Также электронная литография, имеющая невысокую производительность, используется при производстве единичных экземпляров электронных компонентов, где требуется нанометровое разрешение, в промышленности и научных исследованиях.