Студопедия

Главная страница Случайная страница

Разделы сайта

АвтомобилиАстрономияБиологияГеографияДом и садДругие языкиДругоеИнформатикаИсторияКультураЛитератураЛогикаМатематикаМедицинаМеталлургияМеханикаОбразованиеОхрана трудаПедагогикаПолитикаПравоПсихологияРелигияРиторикаСоциологияСпортСтроительствоТехнологияТуризмФизикаФилософияФинансыХимияЧерчениеЭкологияЭкономикаЭлектроника






Вопрос 15. Характеристики и параметры полевого транзистора с управляющим переходом






Характеристики полевого транзистора с управляющим p – n – переходом показаны на рис.5.4.

Качественно характеристики полевого транзистора подобны характеристикам биполярного транзистора. При этом сток полевого транзистора соответствует коллектору, затвор - базе и исток – эмиттеру биполярного транзистора. Так как входной ток полевого транзистора практически равен 0, то входная характеристика не строится.

В выходных характеристиках полевого транзистора можно выделить три области.

Область I – крутая область – может использоваться как омическое управляемое сопротивление. При этом напряжение между стоком и истоком относительно мало.

Область II называется пологой или областью насыщения. В усилительных каскадах транзистор работает на пологом (в области насыщения) участке характеристик. В III области происходит пробой транзистора.

Как уже отмечалось, напряжение, при котором наступает режим насыщения, называется напряжением насыщения. Как видно из выходных характеристик, напряжение насыщения меняется при изменении напряжения Uзи. Так как влияние Uзи и Uси на ширину канала у стокового вывода практически одинаково, то Uси нас при Uзи = 0 равно |Uотс| и

Uси нас = |Uзи отс| - |Uзи|.

Другими словами, напряжения насыщения транзистора можно получить путем наложения передаточной характеристики на выходные характеристики и смещая Uотс в начало координат.

 

 

К основным характеристикам полевых транзисторов относятся:

1. стокозатворная - зависимость тока стока Iс от напряжения на затворе Uзи для транзисторов с ка­налом n типа (рис. 8.6)

Рис. 8.6. Стокозатворная характеристика

 

2. стоковая - зависимость тока стока Iс от напряже­ния сток исток Uси при постоянном напряжении на затворе, Iс = f(Uси) при Uзи = const (рис. 4.7).

Рис. 8.7. Стоковая характеристика

 

Основные параметры:

1. напряжение отсечки;

2. крутизна стокозатворной характеристики пока­зывает, на сколько миллиампер изменится ток стока полевого транзистора при изменении напряжения на затворе на 1 В при фиксированном напряжении сток исток. Крутизну стокозатворной характеристики можно вычислить по следующим формулам,

S = Δ Ic/Δ Uзи = (Ic2 – Ic1)/(Uзи2 – Uзи1).

 

3. внутреннее сопротивление, иногда называемое выходным, полевого транзистора, равное частному прира­щений напряжения сток исток транзистора и тока стока при фиксированном напряжении затвор исток, можно вычислить по формуле

Ri = Δ Uси/Δ Ic.

 

Приращения напряжения сток исток Δ Uси и тока стока Δ Iс можно определить по графику выходных ха­рактеристик полевого транзистора, изображенных на рис. 8.8.

Рис. 8.8. Выходные характеристики

 

4. входное сопротивление полевого транзистора, равное частному приращений напряжения затвор исток и тока затвора, можно найти согласно выражению

Rвх = Δ Uзи/Δ Iз.

 

Ввиду того, что на затвор полевого транзистора подают запирающее напряжение, ток затвора будет представлять собой обратный ток закры­того p-n перехода и будет очень мал. Величина входного сопротивления Rвх полевого транзистора весьма велика и может достигать 109 Ом.

 

Вопрос 16. Полевые транзисторы с управляющим/ изолированным затвором

Полевой транзистор с изолированным затвором (МДП - транзистор) – это полевой транзистор, затвор которого отделен в электрическом отношении от канала слоем диэлектрика.

МДП - транзисторы (структура: металл-диэлектрик-полупроводник) выполняют из кремния. В качестве диэлектрика используют окисел кремния SiO2. отсюда другое название этих транзисторов – МОП - транзисторы (структура: металл-окисел-полупроводник). Наличие диэлектрика обеспечивает высокое входное сопротивление рассматриваемых транзисторов (1012 … 1014Ом).

Принцип действия МДП - транзисторов основан на эффекте изменения проводимости приповерхностного слоя полупроводника на границе с диэлектриком под воздействием поперечного электрического поля. Приповерхностный слой полупроводника является токопроводящим каналом этих транзисторов. МДП - транзисторы выполняют двух типов – со встроенным и с индуцированным каналом.

Рассмотрим особенности МДП-транзисторов со встроенным каналом. Конструкция такого транзистора с каналом n-типа показана на рис. 7.16, а. В исходной пластинке кремния р- типа с относительно высоким удельным сопротивлением, которую называют подложкой, с помощью диффузионной технологии созданы две сильнолегированные области с противоположным типом электропроводности – n. На эти области нанесены металлические электроды – исток и сток. Между истоком и стоком имеется тонкий приповерхностный канал с электропроводностью n- типа. Поверхность кристалла полупроводника между истоком и стоком покрыта тонким слоем (порядка 0, 1 мкм) диэлектрика. На слой диэлектрика нанесен металлический электрод – затвор. Наличие слоя диэлектрика позволяет в таком полевом транзисторе подавать на затвор управляющее напряжение обеих полярностей.






© 2023 :: MyLektsii.ru :: Мои Лекции
Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав.
Копирование текстов разрешено только с указанием индексируемой ссылки на источник.