Виды пленкообразования. У/Ф отверждение

Виды пленкообразования Пленкообразование может осуществляться несколькими основными способами:

а) путем испарения растворителей из раствора пленкообразующего вещества, являющегося твердым полимером (перхлорвиниловые, поливинилацетатные, эфироцеллюлозные, спирторастворимые смолы); б) осуществлением окислительных процессов в низкомолекулярных жидких соединениях (растительные масла, маслосодержащие полиэфиры);

в) пространственной поликонденсацией (в мочевино-, меламино- и фенолформальдегидных смолах);

г) полимеризацией совместно с реакцией поликонденсации (ненасыщенные полиэфирные смолы);

д) химическим взаимодействием с отверждающими агентами (эпоксидные смолы с полиаминами);

е) расплавлением порошкообразных высокополимерных соединений с последующим образованием тонких защитных пленок покрытий при охлаждении (например, метод газопламенного напыления полиэтилена и других подобных полимеров);

ж) коалесценцией при применении латексов или дисперсий (ПВА, бутадиенстирольные латексы);

з) сочетанием коалесценции с последующим расплавом частичек, плохо растворяющихся в дисперсионной среде полимеров

(политетрафторэтилен); и) сочетанием коалесценции с самовулканизацией (дисперсия тиокола Т-50).

Пленкообразование из водных дисперсий, где механизм процесса связан со слипанием частиц дисперсной фазы при удалении дисперсионной среды, протекает с образованием однофазной сплошной пленки. При этом различают два основных случая. Первый, когда диспергированный полимер находится в высокоэластическом или вязкотекучем состоянии и при удалении дисперсионной фазы в результате испарения при комнатной температуре частицы его слипаются в гомогенную пленку покрытия, т.е. он способен к пленкообразованию из дисперсии в обычных условиях.

У/Ф излучение Фотохимич способ ускор отверждения полимерных покрытий основан на фотополимеризации, а именно процессе образ. макро молекул под дейст у/ф изл. У/Ф излучение это одна из разновидностей лучист энергии с длин волны 10-400 нм, практически использ диапоз 100-400 нм, суть: в ЛК мат вводится спец светочувствит. добавка фотосенсибилизатор – выполн роль переносчика поглащ ими эхнергии на молек регул компонентов. Реакция протек с выделен тепла, которая в свою очер способ ускорению реакции. В качестве ФСБ прим: бензоин и его произв, max скорость отверж покр набл при длин волны 250-380 нм. Источ У/Ф изл явл газоразрядные лампы: люминист лампы низк давл (ИНД), ртутно-кварцевые лампы высок давл (ИВД).

Лампы ИНД предст собой разл длин с впаенными в них электр, в трубку введено небол коллич ртути созд некоторое давл насыщенных ее поров и инертный газ (аргон-для облегч зажиг лампы). В рабочем состоян она нагр до темп 35-45^о – называются холодными (марки ЛУФ-40, ЛУФ-80).

Лампы ИВД в процессе работ в так лампах созд давление ртути до 0, 5МПа, темп нагр в раб режими достигает 700^оС, поет их изг из высоко прочного и тугоплавкого кварцевого стекла (марки ДРТ-1000, -6000, -300 – наз дуговая ртутно-трубчатая). Оборуд возд охлаждением излучателя.

Разновид: разнов ламп ИВД явл дуговые лампы с йодидами метал. Для отвержд пегмент-ых и покрыт болшой толщ наиболее эффект лампы с дополн галлия – наз метло-галогенные(МГЛ), они имеют большую проникающ способ. ИСТ-раб и импульсный режим.

У/Ф камеры оборуд лампами с зеркал отраж и пластичн конвеером для подачи детал, камеры снобжены приточно-вытижной вентеляц, излучу стан перпенд напр движ деталей. Область прим ИНД: прим на стадии желатинизации, раст до обл поверх 50мм, время облуч 30-40 сек

Область прим ИВД: а) для оконч отверж безпарафин лаков, б)для ПЭ грунт и шпакл. Расстояние до повер 70 мм, время 10-120 сек лаков, 20-40 сек грунт и шпакл.

При импулсно-лучив сушке время отверждения лаков 15-35 сек, для грунт 10-15 сек